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等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
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等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种成熟的薄膜沉积技术,能为不同的应用制作高质量钝化或高密度掩膜。PECVD工艺模块是专为生产高均匀性与高速率的薄膜而设计的,并能控制薄膜特性。
更多产品信息:
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备,用于生产高均匀性与高速率的薄膜,并能控制薄膜特性。
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