等离子体增强化学气相沉积（PECVD）是一种成熟的薄膜沉积技术，能为不同的应用制作高质量钝化或高密度掩膜。PECVD工艺模块是专为生产高均匀性与高速率的薄膜而设计的，并能控制薄膜特性。

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• 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，用于生产高均匀性与高速率的薄膜，并能控制薄膜特性。