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GENERIS PECVD

适用于PERC太阳能电池AlOx和SiNx沉积的在线PECVD设备

GENERIS PECVD 可根据客户需求进行配置:

  • PERC和其它电池种类的完整钝化工艺:背面AlOx + SiNy ,正面SiNx
  • AlOx + SiNy用于PERC背面钝化或n-PERT正面钝化
  • 正面和/或背面的SiNx仅用于减反射层或封盖层
  • 作为IBC和类似应用的钝化和/或掩蔽层的SiOx或SiNx
  • 用于下一代和叠层电池结构的硅和/或铝基氧化或氮化保护层或中间层

集团新研发的GENERIS PECVD设备是专为先进高效晶硅太阳能电池的大批量生产而设计的模块化水平式在线工具,适用于PERC/PERT电池和TOPCon、POLO等钝化接触电池生产。PERC太阳能电池两面均为介质钝化层。通过AlOx覆盖SiNx:H叠层薄膜沉积实现背面钝化。正面的SiNx:H层既可用于钝化,也可用于减反射涂层(ARC)。该设备非常适合经济高效的大批量生产,具有高产能、高稼动率和清洁时间短的优点,能最大化利用原材料。整个过程中可控制基板温度,使PERC电池在350度下获得最佳的层性能。工艺温度可在较大范围内根据其它层堆和应用进行调整。特别设计的载板能实现接近零绕镀的单面沉积。

GENERIS PECVD设备可在全真空不间断环境下对硅片的两面进行沉积,借助气体分隔腔室在一台设备内完成AlOx和SINy两种工艺。

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