在线PECVD设备 适用于TOPCon、POLO、HJT和PERC太阳能电池
GENERIS PECVD 可根据客户需求进行配置：
- PECVD材料:非晶(i,n,p)、纳米硅(i,n,p)、 多晶硅(i,n,p)、AlOx,、SiNx SiOx等
- 典型应用包括减反射层、阻挡层、 电接触层和绝缘层
- 根据产能需求可选不同的设备版本， 最高产能可达5,800 wph
- 硅片尺寸:最大为G12半片
- 标准生产节拍:每个承载器35 – 75秒
- 通过承载盘并行处理基材(如显示面板、玻璃、硅片)
- 高速自动化装卸承载盘(单面或双面)
- 无需破真空即可配置自上而下和自下而 上–双面溅射
- 全面的基板温度控制
- 低运营成本和高稼动率
- 可配置溅射顺序
- 靶材高利用率
- 承载器传送系统在设备下方
德国新格拉斯科技集团采用电感耦合等离子体(ICP) 源和电容耦合等离子体(CCP)源进行在线PECVD 镀膜应用。ICP是一种能够提供高密度电子及活化能 的等离子体技术，利用这一技术可以在较大的工艺窗 口下获得高质量的薄膜并且具有非常高的沉积速率， 且对衬底的损伤非常小。因此，ICP 等离子体源非常 适用于大规模产业化中需求高速率沉积、且对衬底损 伤低的电子元器件，如太阳能电池等。而CCP等离子 体技术是沉积薄或厚导电层的理想方法，能够根据光 伏电池技术的需求进行高度掺杂。集团基于这两项技 术开发了新型的大型线性等离子体源，并应用于研发 中心的先进PECVD实验室设备。
德国新格拉斯科技集团为砷化镓(GaAs)光伏电 池的生产提供功能膜层沉积设备。多结GaAs太阳 能电池转换效率已超过35%，以卫星发电的太空应 用为主。
集团旗下的GENERIS PECVD设备是专为高效晶硅 太阳能电池的大批量生产而设计的模块化水平式在线 工具，适用于PERC电池和TOPCon、POLO、HJT 等钝化接触电池生产。PERC太阳能电池两面均为介
质钝化层。通过AlOx覆盖SiNx:H叠层薄膜沉积实 现背面钝化。正面的SiNx:H层既可用于钝化，也可 用于抗反射涂层(ARC)。TOPCon和POLO太阳能 电池是单面沉积导电非晶a-Si:H(n,p)或多晶硅薄膜 poly-Si:H(n,p)，HJT则为双面沉积。
该模块化设备非常适合经济高效的大批量生产，具 有高产能、高稼动率和清洁时间短的优点，能最大 化利用原材料。整个过程中可控制基板温度，使 HJT、PERC和TOPCon电池在200度到500度之间 获得最佳的膜层性能。工艺温度可在较大范围内根 据其它膜层和应用进行调整。特别设计的承载器能 实现接近零绕镀的单面沉积。
无需破真空，GENERIS PECVD设备即可在硅片的 两面进行沉积。借助气体分离室，AlOx 和 SiNx 两 种工艺可在一个通用系统中实现，也能在不破真空 的情况下沉积本征和掺杂的非晶层。
这种配置能够在一台设备中对所有膜层进行沉积， 提供了一种更优惠更具吸引力的高效生产解决方案。
非晶或多晶硅的高速在线沉积能够帮助实现更多先 进超高效电池的量产，如PERC 、TOPCon、 POLO-BJ HJT和叠层太阳能电池。
