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HISTARIS

适用于薄膜太阳能及其它应用的水平基板传输在线溅射设备

特征

  • 模块化设备概念
  • 水平基板运输——按需求可配置/不配置载板
  • 通过使用旋转圆柱形磁电管最大程度利用靶材
  • 高沉积率
  • 沉积前和沉积过程中可对温度进行控制通过动态阀和/或独立闸室气体分隔
  • 易维护、低运营成本

德国新格拉斯科技集团旗下的HISTARIS设备适用于光伏、建筑玻璃、燃料电池和移动设备等大面积溅射应用。凭借其前沿的先进技术,能在提高电池效率的同时降低生产成本。设备工艺腔体采用模块化设计并配置旋转磁控管,可对高性能TCO层或其它几种材料(如金属和金属氧化物)进行溅射沉积。设备可添加清洁或蚀刻的预处理模块。凭借其独特的模块化设计,HISTARIS设备可以胜任具有挑战性的层叠工艺和灵活的生产要求。

以正面透明或背面金属导电层以及各种材料组成的多层前驱体涂层为例,该设备的主要优势是能对玻璃基材进行真空水平式镀膜,适用于太阳能、显示器等多个行业。标准应用包括减反射层、阻挡层、前驱体层和Al, Cu, NiV等不同金属层。HISTARIS设备采用在线式工艺,通过专门设计的载板或直接在定制的辊筒传动装置上传送基板。

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