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CISARIS CX3 硒化设备

快速热处理 – 硒化/硫化/升华

特征

  • 第三代在线硒化炉,进一步优化生产周期
  • 对大尺寸玻璃基板进行快速加热(最快至4 °C/s)
  • 基板均匀冷却避免玻璃翘曲
  • 出色的温度控制(平均变化< 5 °C)

CISARIS CX3设备是一种新型的在线快速热处理设备,用于在大尺寸玻璃衬底上形成CIGSSe吸收层。CISARIS由一个装卸站、一个真空密闭工艺站和一个回转传送带组成,是大规模生产CIS太阳能组件的理想设备。

CISARIS具有高稼动率、高良率和生产周期短的优点,凭借先进的硒化工艺,能实现75 MWp以上的年产能(具体取决于配置)。CISARIS是集团基于前一代硒化炉而开发的新设备,是经过工艺验证的创新和可靠的生产工具。

CISARIS可以在温度高达600°C以上的有毒和腐蚀性气体环境下,对1平方米以上的大尺寸玻璃基板进行安全的热处理。其出色的加热和冷却速度,和在各工艺阶段都能保持优异的温度均匀性,正是制备理想的高效太阳能组件CIGSSe吸收层的关键因素。

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