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GENERIS PVD

GENERIS PVD 在线溅射设备

GENERIS 特征

  • 适用于透明导电氧化物层
  • 溅射靶材:ITO、AZO、Ag、NiV、Cu、Al等。
  • 硅片:M4、M6、M10、M12以及半片格式
  • 载板尺寸:每个载板可放80片(M6)
  • 产能(M6):3000、6800和10000片/小时
  • 低运营成本和高稼动率
  • 可配置自上而下和自下而上溅射
  • 可配置溅射顺序
  • 旋转式圆柱形磁电管
  • 靶材利用率高
  • 可选同侧或两侧上下料的版本
  • 通过回转腔技术使设备达到最小占地面积

德国新格拉斯科技集团为太阳能行业提供水平基板传输的GENERIS PVD高产量在线溅射设备平台。该设备专为满足高性能HJT太阳能电池生产的特定要求而设计。对于复杂的透明导电氧化物层(TCO),例如ITO(氧化铟锡)和AZO(掺铝氧化锌),GENERIS PVD能极大地满足异质结电池技术的关键要求。太阳能电池通过GENERIS PVD的工艺腔体自动传送,遵循在线原理并经过双面镀膜处理。该设备能保证较高的层厚均匀性和层重复性,在提供生产效率的同时降低运营成本(OPEX)。

整个工艺过程中,基板温度全面控制在≤200°C以实现最佳的薄膜沉积性能。与传统的反应性等离子体沉积(RPD)等工艺相比,真空在线溅射设备具有许多明显的优势。以一家1GW产能的HJT太阳能电池工厂为例计算,使用SINGULUS最大产能为10,000片/小时(wph)的高产量溅射设备,比起产能仅2,500片/小时的RPD设备,所需要的设备数量较少,资本支出(CAPEX)显著减少。最新一代的GENERIS PVD 10000产能高达10,000片/小时,设备年产量可达到约500MW。

整个工艺过程中,基板温度全面控制在≤200°C以实现最佳的涂层性能。与传统的反应性等离子体沉积(RPD)等工艺相比,真空在线溅射设备具有许多明显的优势。以一家1GW产能的HJT太阳能电池工厂为例计算,使用SINGULUS最大产能为10,000片/小时(wph)的高产量溅射设备,比起产能仅2,500片/小时的RPD设备,所需要的设备数量较少,资本支出(CAPEX)显著减少。最新一代的GENERIS PVD 10000产能高达10,000片/小时,设备年产量可达到约500兆瓦。

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