德国新格拉斯科技集团为太阳能行业提供水平基板 传输的GENERIS PVD高产量在线溅射设备平台。 该设备专为HJT太阳能电池生产的特定要求而设 计。对于复杂的透明导电氧化物层(TCO)， 例如ITO(氧化铟锡)和AZO(掺铝氧化锌)， GENERIS PVD能极大地满足异质结电池技术的关 键要求。太阳能电池在GENERIS PVD的工艺腔体 中在线自动传送，进行双面镀膜处理。溅射设备可 确保较高的膜厚均匀性，具有较高的膜层重复性、 高生产率，同时降低了运营成本(OPEX)。

最新的GENERIS PVD设备适用于HJT电池生产，每 小时出片量最高可达8,000片G12硅片。由于设备占 地面积较小，对建筑和洁净室空间的要求也更低，能进一步节省成本。此外，RPD设备只能提供自下 而上的单面工艺，需要翻转硅片，产生额外不必要 的硅片处理工序。相比之下，GENERIS PVD采用双 面工艺，硅片处理工序较少，能有效减少硅片的破 碎和沾污。集团研发中心能自主开发磁控管等设备 关键部件，并使用最先进的实验室设备模拟不同溅 射过程以持续优化设备内部的组件和相关工艺。新 开发的工艺可以直接用于GENERIS PVD量产平台。